一、電子行業(yè)用水簡介
半導體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高，線寬越窄，對水質(zhì)的要求也越高。目前我國電子工業(yè)部把電子級水質(zhì)技術分為五個行業(yè)等級，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。
二、應用范圍
1、電子、電力、電鍍、照明電器、實驗室、食品、造紙、日化、建材、造漆、蓄電池、化驗、生物、制藥、石油、化工、鋼鐵、玻璃等領域。
2、化工工藝用水、化學藥劑、化妝品等用純水。
3、單晶硅、半導體晶片切割制造、半導體芯片、半導體封裝 、引線柜架、集成電路、液晶顯示器、導電玻璃、顯像管、線路板、光通信、電腦元件、電容器潔凈產(chǎn)品及各種元器件等生產(chǎn)工藝用純水。
三、工藝簡介
1、系統(tǒng)模塊化設計，共分四部分：預處理系統(tǒng)、反滲透系統(tǒng)、EDI系統(tǒng)、終端供水系統(tǒng)。
2、預處理系統(tǒng)主要用來去除原水中的懸浮物、濁度、色度、膠體以及部分有機物，保證產(chǎn)水符合反滲透系統(tǒng)的進水水質(zhì)要求。
3、反滲透系統(tǒng)主要用來去除原水中溶解性鹽類物質(zhì)、細菌、熱源等，保證產(chǎn)水符合EDI系統(tǒng)進水水質(zhì)要求。
4、EDI系統(tǒng)主要用來對反滲透產(chǎn)水進行進一步脫除溶解性的小分子鹽類物質(zhì)，產(chǎn)水達到電阻率達到15MΩ.cm以上。
5、終端供水系統(tǒng)主要是用來將合格水輸送至用水點，輸送過程中對EDI產(chǎn)生進行比較后的離子交換脫鹽，使得產(chǎn)水達到電阻率達到18MΩ.cm以上。
6、整個系統(tǒng)進行集中控制。
四、技術特色
1、系統(tǒng)模塊化設計，占地面積小，操作維護方便，安裝方便快捷，整體美觀。
2、整套系統(tǒng)實現(xiàn)全自動化運行，并且手動與自動自由切換。
3、設備產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定，運行連續(xù)穩(wěn)定。
4、系統(tǒng)工藝先進，無需化學藥品再生，無危害性廢液排放。
5、系統(tǒng)節(jié)水率高，系統(tǒng)回收率在75%以上。
6、關鍵部位采用在線儀表監(jiān)測，適時數(shù)據(jù)上傳。
五、設備參數(shù)
1、系統(tǒng)回收率：
超濾≥90%
一級反滲透≥75%
二級反滲透≥85%
EDI系統(tǒng)≥90%
2、設備產(chǎn)水符合《電子超純水國家標準》 （GB/T1144.6.1-1997）或美國半導體工業(yè)純水指標。
3、單支膜脫鹽率≥99.5%（水溫25℃）。
