工業(yè)高純水設(shè)備可以將水中的導(dǎo)電介質(zhì)幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質(zhì)、氣體及有機(jī)物均去除至很低程度的水。電阻率約10～18.3MΩ.cm極限值。超純水,是一般純水設(shè)備很難達(dá)到的程度，通常采用預(yù)處理、反滲透技術(shù)、高純化處理以及后級(jí)處理四大步驟，多級(jí)過(guò)濾、高性能離子交換(拋光)、超濾過(guò)濾器、紫外燈、除TOC裝置等多種處理方法，電阻率方可達(dá)18.25MΩ.cm。

　　工業(yè)高純水設(shè)備用途:超純水水質(zhì)分為五個(gè)行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)，分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm，以區(qū)分不同水質(zhì)。

　　工業(yè)高純水設(shè)備的應(yīng)用領(lǐng)域

　　比較近幾年電去離子在各個(gè)工業(yè)領(lǐng)域都越來(lái)越受重視，許多工業(yè)系統(tǒng)開(kāi)始采用電去離子作為其水處理系統(tǒng)的更新?lián)Q代技術(shù)，如電力工業(yè)、制藥工業(yè)、微電子工業(yè)、電鍍與金屬表面處理等。

　　(1)電力工業(yè)

　　據(jù)推算電力行業(yè)水處理單元的操作費(fèi)用約占電力成本的10%，而用電去離子替代離子交換樹(shù)脂可以使每處理1000加侖水的成本由11美元降至1.75美元。

　　(2)制藥工業(yè)

　　雖然藥用水的特點(diǎn)是并不要求很高的去離子程度，但電去離子系統(tǒng)具有同時(shí)去鹽和控制微生物指標(biāo)的特點(diǎn)，因此已有多家企業(yè)采用RO/EDI集成系統(tǒng)。據(jù)稱(chēng)該類(lèi)系統(tǒng)性能穩(wěn)定，全流程計(jì)算機(jī)連續(xù)監(jiān)控，全自動(dòng)操作無(wú)人值守。

　　(3)電子工業(yè)

　　電子工業(yè)對(duì)水質(zhì)的要求極高，水電阻率要穩(wěn)定的大于18MΩ,而EDI出水一般在15-17MΩ左右，因此在電子級(jí)水的生產(chǎn)過(guò)程多采用EDI+拋光樹(shù)脂系統(tǒng)，即在EDI之后加離子交換，此工程雖然仍需離子交換，但由于EDI已除去了大部分離子，拋光樹(shù)脂幾乎不用再生，因此水處理費(fèi)用仍然很低。

　　(4)電鍍與金屬表面處理

　　電去離子可用于電鍍廢水處理可以使水重復(fù)使用并回收重金屬離子。

　　(5)其他領(lǐng)域

　　電去離子在食品工業(yè)、化學(xué)工業(yè)等都有很廣泛的應(yīng)用：多室流化床、設(shè)備的橫截面一般為矩形，用垂直擋板將設(shè)備沿長(zhǎng)度方向分成多室(一般4～8室)。擋板下沿與分布板面之間留有幾十毫米的間隙，作為室間粉粒通道。比較后一室有控制床面的堰板。流體平行進(jìn)入各室，顆粒則依次通過(guò)各室，因此多室流化床不僅能抑制顆粒在整個(gè)床層內(nèi)的返混，而且還能調(diào)節(jié)通入各室流體的流速和溫度。多室流化床比多層流化床設(shè)備容易控制，總壓降也小;但傳熱、傳質(zhì)推動(dòng)力較多層床小，用于干燥時(shí)空氣熱量利用效率較差。 兩器流化床 有兩個(gè)流化床，在左側(cè)流化。

　　工業(yè)高純水設(shè)備工藝流程

　　1、采用離子交換方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→陽(yáng)樹(shù)脂過(guò)濾床→陰樹(shù)脂過(guò)濾床→陰陽(yáng)樹(shù)脂混床→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　2、采用兩級(jí)反滲透方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→第一級(jí)反滲透 →PH調(diào)節(jié)→中間水箱→第二級(jí)反滲透(反滲透膜表面帶正電荷)→純化水箱→純水泵→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　3、采用EDI方式，其流程如下：

　　原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)反滲透機(jī)→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)

　　工業(yè)高純水設(shè)備水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)

　　出水水質(zhì)完全符合我國(guó)電子工業(yè)部電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五級(jí)標(biāo)準(zhǔn))、我國(guó)電子工業(yè)部高純水水質(zhì)試行標(biāo)準(zhǔn)、美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè)用純水指標(biāo)、日本集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)、國(guó)內(nèi)外大規(guī)模集成電路水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)。